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化学镀铜技术起始于1947年，Narcus首先报道了化学镀铜溶液化学。初始阶段化学镀铜液的稳定性很差，溶液易自动分解，且施镀范围不能控制，所有与溶液接触的地方都有沉积物。而真正意义上的商品化学镀铜出现于20世纪50年代，随着印制线路板(PCB)通孔金属化的发展，化学镀铜得到了早的应用。 个类似现代的化学镀铜溶液由Cahill公开发表于1957年，镀液为碱性酒石酸铜镀浴，甲醛为还原剂。现在，经过50多年的开发研究，形成了相对完善的化学镀的溶液化学知识以及工艺技术基础，并建立了初步的基础理论体系。
化学镀铜是在有钯等催化活性物质的表面，通过甲醛等还原剂的作用，使铜离子还原析出。化学镀铜相对于电镀铜的优势主要有:①基体范围广泛;②镀层厚度均匀:③工艺设备简单:④镀层性能良好。
扁钢产品规格特殊。厚度在8～50mm,宽度150-625mm,长度5-15m，且产品规格档距较密，可以满足用户的需求，代替中板使用、不用切割，就可直接进行焊接。
产品表面的光洁。工艺中二次采用高压水除鳞工序，确保钢材表面光洁
两侧边垂直，菱角清楚。精轧中的二道立轧，保证了两侧边垂直度好，角清，边部表面质量好。
产品的尺度，三点差，同级差优于钢板标准；产品平直、板型好。精轧采用连轧工艺，自动活套自动控制，确保不堆钢不拉钢，产品尺寸精度高，公差范围、三点差、同条差、镰刀弯等参数都优于中板，并且板型直度好。冷剪剪切，长度定尺精度高。
产品材质采用标准，与钢板相同。质量技术标准按YB/T4212-2010标准生产（Q345B/Q235B分别参照GB/T1591-94，GB/T700-88标准）
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阴极表面溶液浓度渐稀的异常液膜称为阴极膜（Cathode Pilm）或扩散层（Diffusion Layer），系指原始铜浓度Cu++重量比下降l%起(99%)到阴极的0%为止的薄液层而言。原本水分子与铜离子所组成的阴极膜，其各处膜厚并不均匀，加入载运剂后此薄膜即将变为厚度增加且均匀性更好的液膜，使得镀铜层厚度也渐趋均匀。本剂可采CVS或HPLC进行分析。
电双层（Double Layer）是指电镀槽液中在接近阴极表面处，因槽液中的带电体受到阴极表面强力负电的感应，而出现一层带正电的观离子层，其与带负电之极板表面所形成的薄夹层，特称为”电双层”。此层厚度约为10A。是金属阳离子在阴极上沉积镀出金属原子的后一道关卡。此时带电之金属离子团，会将游动中附挂各种”配位体”（Ligand,如水分子及CN-与NH3。或有机物等）丢掉,然后吸取极面的电子而成为原子再按能量原子排列后，即可得到所需之金属镀层。
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